OTKS-1300I磁控濺射鍍膜機

設備型號

OTKS-1300I

空載恢復真空

2×10^－3Pa≤10min

靶源

圓靶/矩形靶/柱靶

設備電源

380V50Hz交流

靶位數

3靶自動旋轉

工作托盤調速

轉速0～30rpm，徑向跳動<±1mm

靶尺寸

可選

設備壓縮空氣

氣壓0.4~0.6MPa

靶材尺寸

可選

高壓力自清洗機

轟擊電壓1000-2500V可調可（選配）

工作托盤

可選

環(huán)境溫度

10～35℃

真空室內腔尺寸

1300*1250（mm）

相對濕度

不大于80%

濺射源

雙RF電源

設備自重

約5.0T

真空系統(tǒng)

分子泵+雙極旋轉片泵+羅茨泵+POLYCOLD

控制

PLC半自動/全自動

空載極限真空

8.0 ×10^-5Pa  （空載24小時）

設備冷卻水

工業(yè)軟水或循環(huán)水源，使用水壓0.2～0.4Mpa，最高水壓＜0.45 Mpa；水量>20L/min，水溫18-25℃。

靶尺寸，靶位數，真空室內腔尺寸可根據用于需求配置